抗蚀图形膨胀用材料以及利用该材料构图的方法

申请公布号：

CN1802606A

申请号：

CN02802632.2

申请日期：

2002.08.12

申请公布日期：

2006.07.12

申请人：

富士通株式会社

发明人：

野崎耕司;小泽美和;并木崇久;今纯一;矢野映

分类号：

G03F7/00(2006.01);G03F7/40(2006.01);H01L21/027(2006.01)

主分类号：

G03F7/00(2006.01)

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

任宗华

地址：

日本神奈川

摘要：

本发明提供了一种利用真空紫外光的光蚀刻法实施构图的技术来形成显微图形的方法，抗蚀图形膨胀用材料是由混合包含树脂、交联剂和任何一种非离子表面活性剂及有机溶剂的水溶性或碱溶性组合物所构成的，其中有机溶剂选自醇、直链酯或环酯、酮、直链醚或环醚。

主权项：

1.一种抗蚀图形膨胀用材料，该材料包括含树脂、交联剂和非离子表面活性剂的水溶性组合物或碱溶性组合物。