正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法

申请公布号：

CN1310091C

申请号：

CN02824118.5

申请日期：

2002.11.29

申请公布日期：

2007.04.11

申请人：

东京应化工业株式会社

发明人：

岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;羽田英夫

分类号：

G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01)

主分类号：

G03F7/039(2006.01)

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王旭

地址：

日本神奈川县

摘要：

本发明提供一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，(C)一种有机溶剂组分，其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2-甲基-2-金刚烷基更容易消除的多环溶解抑制基团作为侧链上的可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含内酯的多环基团，和(a3)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含羟基的多环基团；以及使用这种组合的光刻胶图案形成方法。

主权项：

1.一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自 丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的 作用下增大，(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，和(C)一种有机溶 剂组分， 其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍 生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2-甲基-2-金刚烷基更容易消除的 多环溶解抑制基团作为可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸 酯的结构单元，其包含一种含内酯的降冰片烷基，和(a3)一种衍生自丙烯 酸酯的结构单元，其包含一种含羟基的多环基团， 其中所述的结构单元(a1)是至少一个选自由下面所示的通式(I)和通式 (II)组成的组的单元： <img file="C028241180002C1.GIF" wi="882" he="600" />其中R¹表示具有2-5个碳原子的低级烷基， <img file="C028241180002C2.GIF" wi="850" he="583" />其中R²和R³每个独立地表示1-5个碳原子的低级烷基， 所述结构单元(a3)由下面所示的化学式表示 <img file="C028241180003C1.GIF" wi="1366" he="592" />其中如果将所述的结构单元(a1)，所述的结构单元(a2)和所述的结构单 元(a3)结合在一起的总和认定为100摩尔％，那么，所述的结构单元(a1)为 30至60摩尔％，所述的结构单元(a2)为20至60摩尔％，和所述的结构单元(a3) 为10至50摩尔％； 酸生成剂组分(B)的量在0.5-30质量份/100份质量的树脂组分(A)。