一种发光二极管的外延结构及其制作方法
- 申请公布号:
- CN104701431B
- 申请号:
- CN201510132505.8
- 申请日期:
- 2015.03.25
- 申请公布日期:
- 2017.03.29
- 申请人:
- 厦门市三安光电科技有限公司
- 发明人:
- 郑锦坚;寻飞林;伍明跃;郑建森;李志明;杜伟华;邓和清;周启伦;李水清;康俊勇
- 分类号:
- H01L33/06(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I
- 主分类号:
- H01L33/06(2010.01)I
- 地址:
- 361009 福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号
- 摘要:
- 本发明公开了一种发光二极管的外延结构及其制作方法,采用量子点作为发光层多量子阱结构(MQW)的量子阱层,利用量子点的量子限制效应,可有效提升电子和空穴的复合效率;同时,在具有纳米级凹坑的量子垒层上设置纳米级金属反射层,可使MQW发出的光立即被反射至外延结构正面;此外,纳米级金属反射层可形成表面等离子体(suface plasmon),进一步提升出光效率。
- 主权项:
- 一种发光二极管的外延结构,包括:在衬底上依次设置有第一导电类型半导体层、发光层多量子阱结构和第二导电类型半导体层,其特征在于:所述发光层多量子阱结构从下至上依次包括:具有纳米级凹坑的第一量子垒层、形成于凹坑表面的纳米级金属反射层、形成于金属反射层表面的量子点作为量子阱层,以及覆盖于所述第一量子垒层、金属反射层和量子点之上的第二量子垒层。
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