薄基板或其类上曝光或形成图案之方法及装置

申请公布号：

TW200415793

申请号：

TW092131011

申请日期：

2003.11.05

申请公布日期：

2004.08.16

申请人：

液晶先端技术开发中心股份有限公司

发明人：

川晋;谷口幸夫;山口弘高;山元良高;阿部浩之

分类号：

H01L29/786

主分类号：

H01L29/786

代理人：

蔡清福

地址：

日本

摘要：

本发明关于一曝光一预定图案之装置，及连续或随后移动待曝光基板上之曝光区域。装置包括一装置，以沿发生较大基板厚度变化之特定方向移动基板面积，一装置以侦测基板表面之位移，及一装置以控制基板表面倾斜与高度。倾斜与垂直移动根据侦出之位移而实施。曝光之表面使其与基板表面在曝光期间之任何时间大致上相对应。