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真空箱式气氛炉
设备用途：
设备主要用于高温精密退火、微晶化陶瓷釉料制备、模具退火、粉末烧结、塑胶粉末实验，纳米材料、金属部件在气氛保护下是退火热处理。广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产
真空箱式气氛炉
气氛炉 产品描述
KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
真空箱式气氛炉
设备用途：
设备主要用于高温精密退火、微晶化陶瓷釉料制备、模具退火、粉末烧结、塑胶粉末实验，纳米材料、金属部件在气氛保护下是退火热处理。广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产
真空箱式气氛炉
气氛炉 产品描述
KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
产品名称
型号
规格
容积<L>
箱式气氛炉
温度范围
0-1700℃
KXRQ1700-20
200x100x100
2
KXRQ1700-30
300x200x200
12
KXRQ1700-30A
300x150x150
6.75
KXRQ1700-40
400x300x300
36
KXRQ1700-40A
400x300x200
24
KXRQ700-50
500x400x400
80
KXRQ1700-50A
500x300x300
45
KXRQ1700-60
600x400x400
96